РАМАНОВСКИЕ И МОРФОЛОГИЧЕСКИЕ ПРИЗНАКИ НЕОДНОРОДНОСТИ Ni/Si ДО ТЕРМИЧЕСКОГО СИЛИЦИДООБРАЗОВАНИЯ

Authors

  • Саидов Сафо Олимович Саидов Сафо Олимович Author
  • Хамроева Турсуной Собиржон кизи Хамроева Турсуной Собиржон кизи Author

Keywords:

Ni/Si; кремний; никель; электронно-лучевое формирование слоя; рамановская спектроскопия; СЭМ/ЭДС; приповерхностная неоднородность; силицидообразование.

Abstract

Исследовано состояние Ni/Si после электронно-лучевого формирования слоя Ni на монокристаллическом Si(100) без последующего отжига. Положение основной фононной линии Si сохраняется в интервале 519.70–519.77 см⁻¹, тогда как её полная ширина на половине максимума (ПШПМ) локально различается. СЭМ выявляет различия краевой морфологии, а ЭДС подтверждает присутствие Ni. Результаты фиксируют неоднородное исходное состояние приповерхностной области перед термическим силицидообразованием.

Author Biographies

  • Саидов Сафо Олимович, Саидов Сафо Олимович

    Бухарский государственный университет, Бухара, Узбекистан

  • Хамроева Турсуной Собиржон кизи, Хамроева Турсуной Собиржон кизи

    магистр, выпускница НИЯУ «МИФИ», Москва, Российская Федерация

References

Downloads

Published

2026-08-15

Issue

Vol. 9 No. 1 (2026): WORLD CONFERENCE ON MODERN RESEARCH APPROACHES

Section

Articles